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當(dāng)前位置：首頁產(chǎn)品中心光學(xué)無源器件光柵微透鏡陣列色散勻化片

  • PCG-1812-760-971高功率應(yīng)用UV-VIS熔融石英脈沖壓縮光柵 760nm (1812線/mm)（光柵/微透鏡陣列/光色

    高功率應(yīng)用UV-VIS熔融石英脈沖壓縮光柵 760nm (1812線/mm)（光柵/微透鏡陣列/光色散/勻化片） 產(chǎn)品總覽 隨著飛秒激光系統(tǒng)的能量水平不斷提高,對(duì)脈沖壓縮光柵能量/功率處理能力的需求也隨之增加。我們制造100%的熔融硅脈沖壓縮光柵,利用了優(yōu)良的干涉圖案化技術(shù)和優(yōu)良的反應(yīng)離子蝕刻技術(shù)。提供優(yōu)秀的能量/功率處理能力,并結(jié)合高效率,低波前失真性能。

    更新時(shí)間：2025-02-10
    產(chǎn)品型號(hào)：PCG-1812-760-971
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  • S2D-24B3-0808-150-P線性硅納米印章(納米圖案硅片) (尺寸 8.0 x 8.3 mm)（ 光柵/微透鏡陣列/光色散/勻化

    線性硅納米印章(納米圖案硅片) (尺寸 8.0 x 8.3 mm)（ 光柵/微透鏡陣列/光色散/勻化片） 產(chǎn)品總覽 LightSmyth提供了大量的納米加工單晶硅襯底，為工業(yè)和學(xué)術(shù)機(jī)構(gòu)提供了一個(gè)低成本的納米光子學(xué)研究入口?；卓捎糜诠鈱W(xué)、光子學(xué)、生物學(xué)、化學(xué)、物理學(xué)（如中子散射）、聚合物研究、納米印跡、微流體學(xué)等領(lǐng)域。

    更新時(shí)間：2025-02-20
    產(chǎn)品型號(hào)：S2D-24B3-0808-150-P
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  • SNS-C20-0808-350-D60-P線性硅納米印章(納米圖案硅片)（ 光柵/微透鏡陣列/光色散/勻化片）

    線性硅納米印章(納米圖案硅片)（ 光柵/微透鏡陣列/光色散/勻化片） 產(chǎn)品總覽 LightSmyth提供了大量的納米加工單晶硅襯底，為工業(yè)和學(xué)術(shù)機(jī)構(gòu)提供了一個(gè)低成本的納米光子學(xué)研究入口。基底可用于光學(xué)、光子學(xué)、生物學(xué)、化學(xué)、物理學(xué)（如中子散射）、聚合物研究、納米印跡、微流體學(xué)等領(lǐng)域。

    更新時(shí)間：2025-02-20
    產(chǎn)品型號(hào)：SNS-C20-0808-350-D60-P
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  • 1550nm 均勻光柵相位掩模 光柵微透鏡 Ibsen丹麥

    1550nm 均勻光柵相位掩模 光柵微透鏡 Ibsen丹麥 產(chǎn)品總覽 相位掩膜光柵是通過光柵中晶格形狀和晶體表面傾斜斜角在定位晶格上刻蝕出自身相位特征的特殊構(gòu)造而形成。

    更新時(shí)間：2024-12-07
    產(chǎn)品型號(hào)：
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  • MASK-1538-1062-10X101538nm 均勻光柵相位掩模（色散勻化片）

    1538nm 均勻光柵相位掩模（色散勻化片） 產(chǎn)品總覽 相位掩膜光柵是通過光柵中晶格形狀和晶體表面傾斜斜角在定位晶格上刻蝕出自身相位特征的特殊構(gòu)造而形成。

    更新時(shí)間：2024-12-07
    產(chǎn)品型號(hào)：MASK-1538-1062-10X10
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